Negative typed photo-sensitive poly(amic ester) copolymers having methacryloyl groups as a side chain were synthesized using pyromellitic dianhydride (PMDA), 4,4’-oxydianiline (ODA) and 2,2-bis(3-amino-4-hydroxyphenyl)hexafluoropropane (Bis-APAF). The poly(amic ester) copolymers converted polyimides by thermal imidization process, and the polyimides have good thermal stability. The photo-lithographic properties of the formulation containing poly(amic ester) copolymers, photo-initiator, and cross-linker were investigated with the point of composition of feeding ratio of ODA and Bis-APAF in the synthesized poly(amic ester) copolymers.

광반응기로 메타아크릴로일 그룹인 hydroxyethyl methacrylate(HEMA)를 곁사슬로 가지며 알칼린 수용액에 현상이 가능한 네거티브 광감성 폴리(아믹 에스테르) 공중합체를 pyromellitic dianhydride(PMDA), 4,4’-oxydianiline (ODA)와 2,2-bis(3-amino-4-hydroxyphenyl)hexafluoropropane(Bis-APAF)를 기반으로 합성하였다. 합성된 광감성 폴리(아믹 에스테르) 공중합체는 열적 이미드화 방법에 의하여 폴리이미드로 전환되며, 높은 열안정성을 가짐을 확인하였다. 광감성 폴리(아믹 에스테르) 공중합체, 광개시제 및 가교제 등의 광감성 조성물의 광 형상화 연구에서 고분자 합성에 투입된 ODA와 Bis-APAF의 조성에 따라 자외선 노광에 따른 현상 속도 및 형상화에 차이를 보임을 확인하였다. 전자주사현미경을 이용하여 알칼리 수용액에서의 현상 및 열적 이미드화 후의 표면을 분석하였으며, 광감성 폴리(아믹 에스테르) 공중합체 합성 시 투입된 ODA와 Bis-APAF의 조성에 따른 특성을 분석하였다.

Keywords: photo-sensitive poly(amic ester) copolymers, photo-sensitive polyimide, thermal imidization, photoresist, photo patterning.